Aixtron,ich steig jetzt ein...
Bei 3,70 dürften die letzten Zittrigen rausgespült worden sein,nach dem langen Abstieg seh ich jetzt Chancen.
Aixtron ist weiter Marktführer bei Halbleiterproduktionsanlagen,der Abwärtstrend könnte hier zu Ende sein.
Trotzdem,Stop auf Schlusskursbasis bei 3,65 wird unbedingt eingehalten.
Ich bin jedenfalls optimistisch gegenüber Aixtron eingestellt.
Sollte die 3,20 € Marke überschritten werden, dann sieht es noch besser aus, dann wird sie wohl die 4 € Marke knacken.
Jetzt fehlen nur noch positive News, dann kann (könnte) es richtig los gehen.
Aber wie immer und alles subjektiv.
29.06.2005
AIXTRON-Call für Risikofreudige
Der Aktionär
Den Experten des Anlegermagazins "Der Aktionär" zufolge eignet sich der Call (ISIN DE000DB84847/ WKN DB8484) auf AIXTRON-Aktien (ISIN DE0005066203/ WKN 506620) für Risikofreudige.
Mit dem letzten Kursanstieg sei der Sprung über den wichtigen Widerstand bei 3 Euro gelungen. Letztes Hindernis auf dem Weg nach oben sei nun der seit Sommer vergangenen Jahres gültige Abwärtstrend, an dem die Notierung im 1. Versuch gescheitert sei. Bei einem Break wären Kurse um vier Euro möglich.
Spekulativ orientierten Anlegern biete der aktuelle Rücksetzer eine gute Einstiegsgelegenheit in die Aktien der AIXTRON AG.
Mehr Potenzial - aber auch mehr Risiko - bietet der AIXTRON-Call der Deutschen Bank, so die Experten von "Der Aktionär". Klettere der AIXTRON-Kurs auf vier Euro, sei hier eine Kursverdopplung möglich.
WKN DB8484
Das dürften sein:
4,3 Mio Fusionskosten
2,9 Mio Verluste 1.Hlbj.
2 Mio Verluste 2.Hlbj. (optimistisch gerechnet)
6 Mio geplante Abschreibung auf immaterielle Güter
= 15 Mio €
In der Bilanz stehen aber 84 Mio Goodwill aus der Genus-Übernahme, die da eigentlich nichts verloren haben, weil einen Geschäftswert nur ein Unternehmen haben kann, welches nachhaltig Gewinne erzielt; und daraus schreibt man dann ab.
Genus aber hat die letzten Jahre nur Verluste erzielt,und das dürfte sich so schnell nicht ändern (siehe auch Q2) wovon soll man da abschreiben? Man wird aber nicht umhin kommen, anzupassen. Früher hat man eben in 10 gleichen Jahresraten abgeschrieben. Das als Maßstab, gesetzt, würde das Ergebnis der nächsten 5 Jahre über 20 Mio Verlust aufweisen. Das ist eine Nachhaltigkeit!!!
AACHEN, Deutschland --(BUSINESS WIRE)--1. September 2005--
Für den Markt für Flachbildschirme, insbesondere für LCD Fernseher, wird in den nächsten Jahren ein starkes Wachstum vorausgesagt. Eine Schlüsseltechnologie für die Herstellung von LEDs als Hintergrundbeleuchtung für LCD Bildschirme ist die Abscheidung von Verbindungshalbleiterstrukturen auf Basis von Gallium Nitrid (GaN) und Gallium Arsenid (GaAs).
Die AIXTRON AG (FSE: AIX; ISIN DE0005066203), ein führender Anbieter von Depositions-Anlagen für Verbindungshalbleiter, profitiert daher von diesem Markttrend. Dies ist am Beispiel des zuletzt erhaltenen Auftrags der South Epitaxy Corporation (SEC) für eine AIXTRON MOCVD-Anlage zu erkennen. SEC, einer der führenden taiwanesischen Anbieter für RGB (rot-grün-blau) LEDs (Licht emittierende Dioden), wird das bestellte AIXTRON 2600G3 Planetary Reactor(R) System für die Massenproduktion von ultra-hellen LEDs auf Basis von Aluminium Indium Gallium Phosphit (AllnGaP) verwenden. Man geht davon aus, dass diese LEDs allmählich die sog. Kalt-Kathoden-Fluoreszierenden Lampen (CCFL) ersetzen werden. Besondere Vorteile der RGB-Hintergrundbeleuchtung sind z.B. eine lange Lebensdauer, ein breites Farbspektrum, hohe Effizienz und Helligkeit. Darüber hinaus bietet diese Technologie bemerkenswerte Umweltvorteile, wie z.B. niedriger Energieverbrauch und der Verzicht auf Quecksilber. Durch eine verbesserte Effizienz ermöglicht die AIXTRON Planetary Reactor(R)-Anlage den MOCVD-Herstellern von ultra-hellen RGB-Chips eine kostensparende Produktion von höherwertiger Qualität. Dies ist das Ergebnis von AIXTRON's Bemühungen, die Leistungsfähigkeit der eingesetzten LED- Materialien bei gleichzeitig reduzierten Produktionskosten laufend zu erhöhen.
Gruß h.
Press Release
Atomic Level Solutions von AIXTRON
Ein weiterer führender taiwanesischer Chip-Hersteller wählt StrataGem-300mm-
ALD-Produktionsanlage von Genus für die moderne DRAM-Fertigung
Aachen, 13. September 2005 - ProMOS Technologies (Hsin-chu Science Park, Taiwan) hat mit Genus, Inc. (Sunnyvale, USA), einem Unternehmen der AIXTRON-Gruppe (FSE: AIX, ISIN DE0005066203; NASDAQ: AIXG), eine Auftragsvereinbarung für eine ALD-Fertigungsanlage geschlossen. Die Anlage wird zunächst für die Massenfertigung moderner Speichergeräte in 90nm-Technologie im neuen, im Central Taiwan Science Park gelegenen ProMOS-Werk, Fab 3, eingesetzt.
"Wir haben uns für Genus entschieden, weil das Unternehmen auf dem 300mm-DRAM-Markt im Bereich Fertigung und Service einen hervorragenden Ruf genießt. Darüber hinaus hat ProMOS einen Technologie-Innovator gesucht, der uns dabei helfen kann, unsere hohen technischen Anforderungen schnell zu erfüllen. Die Anlage war sehr schnell installiert und funktioniert bislang tadellos. Dass die CVD- und ALD-Anlagen von Genus auf ein und derselben Plattform und mit ein und demselben System arbeiten, erleichtert uns den Betrieb und die Wartung", so Dr. Len Mei, Senior Vice President von ProMOS Technologies.
Die 300mm-ALD-Anlage wird künftig auch für die Fertigung moderner DRAM-MIM-Filme im Sub-70-nm-Bereich und darüber eingesetzt. Dieser Auftrag ist ein weiteres Beispiel für die zunehmende Akzeptanz der Genus-ALD-Prozess-Technologie und zeigt, dass die AIXTRON-Gruppe in der Lage ist, den Markt mit modernsten Technologien zu beliefern. AIXTRON konzentriert sich zurzeit auf die Erhöhung seines Halbleiter-Kundenbestands auf dem taiwanesischen Markt.
Der ALD-Markt ist von wachsender Bedeutung für die Entwicklung und Integration neuer Materialien, die Fertigungslösungen für Halbleiterbauelemente mit kritischen Anforderungen ermöglicht. Neuen innovativen ALD-, AVD®- und MOCVD-Depositionstechnologien von AIXTRON wird eine rasche Entwicklung vorausgesagt, da sie den Einsatz dieser Materiallösungen vorantreiben.
Darüber hinaus erhielt Genus, Inc. von ProMOS Technologies einen Folgeauftrag für die Lieferung moderner 300-mm-CVD-Systeme. Genus, Inc. erhielt diesen Folgeauftrag drei Monate nach Lieferung des ersten Systems an dieses moderne 90-nm-DRAM-Werk. Die Anlage wird eine schnelle Fertigung ermöglichen und im dritten Quartal dieses Jahres ausgeliefert.
In der Vergangenheit haben AIXTRON und Genus, Inc. sehr enge und langfristige Geschäftsbeziehungen mit vielen Kunden aus der asiatischen Halbleiterindustrie geknüpft. Durch die Übernahme von Genus, Inc. hat die AIXTRON-Gruppe einen weiteren Schritt getan, um die kritische Masse zu erreichen, die für die Entwicklung einer Vielzahl modernster Halbleiter-Technologien (d.h.: ALD, AVD®, CVD) im Bereich unterhalb von 90-nm erforderlich ist.
Für die Kunden ist der Hsin-chu Science Park als Standort für die taiwanesische Niederlassung von AIXTRON ideal, um maßgeschneiderten Service liefern und gezielt auf die Bedürfnisse der einzelnen Kunden eingehen zu können, was auch eine Zusammenarbeit im Bereich Forschung und Entwicklung einschließt.
Auf der Semicon Taiwan (12. - 14. September 2005) wird die AIXTRON-Gruppe die Gelegenheit nutzen, um die technischen Ergebnisse der beteiligten Entwicklungsteams zu präsentieren (Stand Nr. 584, 2238). AIXTRON-Vorstandsmitglieder werden an dieser Veranstaltung teilnehmen, um die erweiterte AIXTRON-Gruppe vorzustellen und wertvolle Informationen aus der Branche auszutauschen und über die Herausforderungen innerhalb der taiwanesischen Halbleiterindustrie zu sprechen. Weitere Informationen über AIXTRON erhalten Sie unter www.aixtron.com.
DJG/gjl/jhe
29.09.2005, 11:03
Liegt es eventuell nur an der NASDAQ ?? Wenn die vielleicht nicht so beschissen gelaufen wäre zu diesen Zeitpunkten, als bei Aixtron positive News kamen, dann stünde Aixtron wohl schon deutlich über der 3€ Marke.
Der Verlust im 2 Hj. wird wohl größer als der im 1.Hj.! Wäre auch ne Möglichkeit. aber das ist ja schon seit Ewigkeiten bekannt.
Auch im Blu Ray Bereich als auch HD-DVD ist aixtron mit Marktführend und bietet somit langfristig beste Aussichten für Anleger.
Ich denke: vergessene Perle! Weltmarktführer ! Kaufen !
Dem Management ist sicher klar geworden, daß der Kauf eine falsche Entscheidung war. Aber was tun, um die nächste HV zu überleben? Den Verschmelzungsvertrag wegen Täuschung rückgängig machen? Geht nicht, Aixtron war von allen Seiten gewarnt und hat den Kauf nicht aus wirtschaftlichen, sondern aus strategischen Gründen von der HV absegnen lassen. Ein Verkauf für 1 $ würde Abschreibungen über 100 Mio für Goodwill und Lizenzen bedeuten, aber ein Schließen wäre noch teurer, weil dazu noch Abfindungen in großer Höhe gezahlt werden müssten. Also wird man weiter machen und die Verluste werden die nicht ausgeschütteten Gewinne der Aixtron aus vergangenen Jahren aufzehren.
sostiges
Aixtron AG: AIXTRON OVPD(R)-Technologie von führendem OLED-Hersteller
Ad-hoc-Mitteilung übermittelt durch die DGAP.
Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent verantwortlich.
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AIXTRON OVPD(R)-Technologie von führendem OLED-Hersteller RiTdisplay Corp.
qualifiziert
-- Technischer Durchbruch für zukünftige Massenproduktion von organischen
Leuchtdioden (OLEDs) --
Aachen / Hsin-Chu (Taiwan), 7. November 2005 - AIXTRON AG (FSE: AIX, ISIN
DE0005066203; NASDAQ: AIXG), ein führender Anbieter von Depositions-Anlagen
für die Halbleiter-Industrie, gab heute bekannt, dass RiTdisplay Corporation,
der führende Hersteller von OLED-Displays, die Abnahme der ersten AIXTRON Gen2
OVPD(R)-Anlage für die Massenproduktion von OLEDs (organische Leuchtdioden)
unterzeichnet hat.
Nach Einschätzung des Unternehmens ist die Qualifizierung der AIXTRON Gen2-
Produktionsanlage ein technischer Durchbruch für die OVPD(R)-Technologie, da
diese möglicherweise die herkömmlichen OLED-Herstellungsverfahren wie z. B.
Vacuum Thermal Evaporation (VTE) ersetzen wird.
Die Engineering-Teams von RiTdisplay und AIXTRON konnten die OVPD(R)-
Technologie gemeinsam für die Produktion von OLED-Bauelementen für
Farbdisplay-Anwendungen qualifizieren. Die während des Beta-Test hergestellten
OLED-Bauelemente zeigten bessere Leistungscharakteristika als jene Displays,
die mit herkömmlicher Technologie (VTE) hergestellt wurden.
OVPD(R) basiert auf dem Prinzip des Gasphasentransportes und der
patentgeschützten Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie von AIXTRON und
hat gegenüber der herkömmlichen Vacuum Thermal Evaporation (VTE)-Technologie
wesentliche Vorteile: die präzise Kontrolle von Abscheidungsraten, eine
dauerhafte Prozessstabilität und reproduzierbarkeit, ein hoher Durchsatz
aufgrund hoher Abscheidungsraten, eine hohe Ausbeute aufgrund einer
hervorragenden Homogenität, niedrige Wartungs- und Betriebskosten aufgrund
einer äußerst effizienten Materialausnutzung etc. Darüber hinaus ermöglicht
der Gasphasenprozess die Realisierung weiter entwickelter Bauelementstrukturen
wie z.B. Schichten mit Konzentrationsgradienten.
Die OVPD(R)-Technologie wurde exklusiv von Universal Display Corporation
(UDC), Ewing, N.J./USA, an AIXTRON zum Bau von Anlagen lizensiert. Sie basiert
auf einer Erfindung von Professor Stephen R. Forrest et. al. an der Princeton
University, USA, die wiederrum exklusiv an UDC lizenziert wurde. AIXTRON und
UDC haben gemeinsam einen OVPD(R)-Prototypen zur OLED-Herstellung entwickelt
und qualifiziert.
AIXTRON AG
Kackertstr. 15-17
52072 Aachen
Deutschland
ISIN: DE0005066203 (TecDAX)
WKN: 506620
Notiert: Geregelter Markt in Frankfurt (Prime Standard); Freiverkehr in
Berlin-Bremen, Düsseldorf, Hamburg, Hannover, München und Stuttgart
Ende der Ad-hoc-Mitteilung (c)DGAP 07.11.2005
Informationen und Erläuterungen des Emittenten zu dieser Ad-Hoc-Mitteilung:
Die Pressemitteilung zu dieser Adhoc-Mitteilung wird unter
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"beabsichtigt", "plant", "glaubt", "fährt fort" und
"schätzt", sowie ähnliche Begriffe und Aussagen kennzeichnen diese
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basieren zudem auf Annahmen über künftige Ereignisse, die sich als
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Ergebnisse von den hier geäußerten Annahmen wesentlich abweichen. In einer
zukunftsgerichteten Aussage, in der AIXTRON Erwartungen oder Annahmen in Bezug
auf künftige Ergebnisse zum Ausdruck bringt, werden diese Erwartungen oder
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auf einer angemessenen Grundlage beruht; es kann jedoch nicht gewährleistet
werden, dass die Aussage, Erwartungen oder Annahmen eintreffen bzw. erreicht
oder erfüllt werden. Das tatsächliche Betriebsergebnis kann wesentlich von
diesen zukunftsgerichteten Aussagen abweichen und unterliegt bestimmten
Risiken; dazu zählen Risiken in Verbindung mit: den tatsächlich von AIXTRON
erhaltenen Kundenaufträgen; dem Umfang der Marktnachfrage nach Chemical Vapor
Deposition (CVD)-Technologie; dem Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von
Anlagen durch die Kunden; der Finanzlage und den Zugangsmöglichkeiten zu
Finanzierungen; den allgemeinen Marktbedingungen für Dünnfilmbeschichtungs-
Anlagen und dem makroökonomischen Umfeld; Stornierungen, Änderungen oder
Verzögerungen bei Produktlieferungen; Einschränkungen der
Produktionskapazität; lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen;
Schwierigkeiten im Produktionsprozess; Änderungen im Wachstum der
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Verfügbarkeit von Zuwendungen der öffentlichen Hand; Zinsschwankungen bzw.
verfügbare Zinskonditionen; Verzögerungen bei der Entwicklung und
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Ende der Meldung (c)DGAP
gruss
thg